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Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing

edited by André Bouchoule ; alk. paper. -- Wiley, 1999. <BB02113994>
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Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing

edited by André Bouchoule ; alk. paper. -- Wiley, 1999. <BB02113994>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 洋プラ下層 427.5//F64 0121828073 可 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 洋プラ下層
請求記号 427.5//F64
資料ID 0121828073
禁帯出区分 可
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing / edited by André Bouchoule
出版・頒布事項 New York : Wiley , 1999
形態事項 viii, 408 p. : ill ; 24 cm
巻号情報
巻次等 alk. paper
ISBN 0471973866
注記 Includes bibliographical references and index
学情ID BA42921588
本文言語コード 英語
著者標目リンク Bouchoule, André <>
分類標目 LCC:TA2020
分類標目 DC21:660/.044
件名標目等 Plasma engineering
件名標目等 Plasma (Ionized gases -- Industrial applications
件名標目等 Dusty plasmas
件名標目等 Plasma chemistry
件名標目等 Plasma enhanced chemical vapor deposition
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